流體拋光工藝是一種通過控制壓力和流量的方法，使得材料表面得到拋光和平整的過程。流體拋光工藝分為化學拋光和物理拋光兩種。

化學拋光是一種利用化學試劑來去除材料表面的微觀缺陷和細節(jié)的過程。化學拋光的價格通常取決于使用的化學試劑和拋光過程的復雜性。

物理拋光是一種通過機械方法來去除材料表面的微觀缺陷和細節(jié)的過程。物理拋光的價格通常比化學拋光便宜。

因此，流體拋光工藝的價格通常取決于所使用的化學試劑和拋光過程的復雜性。一些常用的流體拋光工藝包括：PVD（物理氣相沉積）、CVD（化學氣相沉積）、EB（電子束熔凝）等。